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ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機

2019-07-22 10:36:00 IT觀察網 編輯:草根 瀏覽數:38草根網

  近日,有韓媒報道稱,全球最著名的光刻機公司ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機,這標志著,半導體制造工藝又或要升級一個新臺階,CPU芯片、手機芯片等不久后又要升級換代了?  消息顯示,在第二代EUV光刻機真正...

  近日,有韓媒報道稱,全球最著名的光刻機公司ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機,這標志著,半導體制造工藝又或要升級一個新臺階,CPU芯片、手機芯片等不久后又要升級換代了?

  消息顯示,在第二代EUV光刻機真正出現時,臺積電、三星已經量產3nm工藝,甚至開始進軍2nm、1nm產品階段了。

  光刻機對于半導體生產來說可謂是至關重要的設備,在以前光刻機甚至是佳能和尼康的重要產品之一,對你沒看錯,就是你知道的那個佳能和尼康。只不過隨著科技的進步、技術的革新,就目前而言,整個光刻機領域的高端產品全部被ASML壟斷。

  EUV光刻機未來還能怎么發展?2016年ASML公司宣布斥資20億美元收購德國蔡司公司25%的股份,并投資數億美元合作研發新一代透鏡,而ASML這么大手筆投資光學鏡頭公司就是為了研發新一代EUV光刻機。

  2018年10月,ASML公司又與IMEC比利時微電子中心合作研發新一代EUV光刻機,目標是將NA從0.33提升到0.5以上,而從光刻機的分辨率公式——光刻機分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA數字越大,光刻機分辨率越高,所以提高NA數值孔徑是下一代EUV光刻機的關鍵。

  半導體制造過程中最復雜也是最難的步驟就是光刻,成本能占到整個生產過程的1/3,光刻機也因此成為最重要的半導體制造裝備,沒有之一。目前最先進的光刻機是荷蘭ASML公司生產的EUV光刻機,每臺售價超過1億美元,而且供不應求。

  日前韓媒報道稱,ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有的光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA(高數值孔徑)透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。

  當時,ASML負責人在公司財報會上透露稱,2019年要出貨30臺EUV設備,這對于正在積極發展芯片產業的中國市場來說是個很好的消息。


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